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        美國AST橢偏薄膜分析儀SE200-MSP
        美國AST橢偏薄膜分析儀SE200-MSP

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        美國

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        暫無
        北京燕京電子有限公司

        會員

        |

        第2年

        |

        生產(chǎn)商

        工商已核實

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        橢圓偏振光譜儀主要用于準(zhǔn)確測量薄膜厚度,光學(xué)常數(shù),薄膜表面粗糙度以及其他的物理,化學(xué),光學(xué)性能。美國AST公司設(shè)計和制造適合不同應(yīng)用的高品質(zhì)橢圓偏振光譜系統(tǒng),其產(chǎn)品具有強大的分析功能軟件TFProbe3.0,可以幫助研發(fā)或?qū)嶒炄藛T迅速地獲得薄膜的厚度,表面粗糙度,合金成分和介電常數(shù)等數(shù)據(jù)。

        產(chǎn)品特點:

        • 易于安裝

        • 基于視窗結(jié)構(gòu)的軟件,很容易操作

        • 先進的光學(xué)設(shè)計,以確保能發(fā)揮出好的系統(tǒng)性能

        • 能夠自動的以0.01度的分辨率改變?nèi)肷浣嵌?/p>

        • 高功率的DUV-VIS光源,能夠應(yīng)用在很寬的波段內(nèi)

        • 基于陣列設(shè)計的探測器系統(tǒng),以確??焖贉y量

        • zui多可測量12層薄膜的厚度及折射率

        • 能夠用于實時或在線的監(jiān)控光譜、厚度及折射率等參數(shù)

        • 系統(tǒng)配備大量的光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)及數(shù)據(jù)庫

        • 對于每個被測薄膜樣品,用戶可以利用先進的TFProbe3.0軟件功能選擇使用NK數(shù)據(jù)庫、也可以進行色散或者復(fù)合模型(EMA)測量分析

        • 三種不同水平的用戶控制模式:專家模式、系統(tǒng)服務(wù)模式及初級用戶模式

        • 靈活的專家模式可用于各種獨特的設(shè)置和光學(xué)模型測試

        • 健全的一鍵按鈕(Turn-key)對于快速和日常的測量提供了很好的解決方案

        • 用戶可根據(jù)自己的喜好及操作習(xí)慣來配置參數(shù)的測量

        • 系統(tǒng)有著全自動的計算功能及初始化功能

        • 無需外部的光學(xué)器件,系統(tǒng)從樣品測量信號中,直接就可以對樣品進行準(zhǔn)確的校準(zhǔn)

        • 可調(diào)節(jié)高度及傾斜度

        • 能夠應(yīng)用于測量不同厚度、不同類型的基片

        • 各種方案及附件可用于諸如平面成像、測量波長擴展、焦斑測量等各種特殊的需求

        • 2D和3D的圖形輸出和友好的用戶數(shù)據(jù)管理界面。

        • 可用于微觀區(qū)域選項的數(shù)字成像工具

        • 對整個小區(qū)域可進行反射測量的整體式反射計

        系統(tǒng)配置:

        • 型號:SE200BA-MSP-M300

        • 探測器:陣列探測器

        • 光源:高功率的DUV-Vis-NIR復(fù)合光源

        • 指示角度變化:可編程設(shè)定,自動可調(diào)

        • 平臺:ρ-θ配置的自動成像

        • 軟件:TFProbe 3.2版本的軟件

        • 整合了SE和MSP系列的優(yōu)點

        • 計算機:Inter雙核處理器、19”寬屏LCD顯示器

        • 電源:110–240V AC/50-60Hz,6A

        • 保修:一年的整機及零備件保修

        基本參數(shù):

        • 波長范圍:250nm到1000 nm

        • 波長分辨率: 1nm

        • 光斑尺寸:1mm至5mm可變

        • 入射角范圍:10到90度

        • 入射角變化分辨率:0.01度

        • 數(shù)字成像像素:130萬

        • 有效放大倍數(shù):1200×

        • 長物鏡工作距離:12mm

        • MSP光速尺寸:2-500μm可調(diào)

        • 樣品尺寸:zui大直徑為300mm

        • 基板尺寸:zui多可至20毫米厚

        • 測量厚度范圍*:0nm〜10μm

        • 測量時間:約1秒/位置點

        • 精度*:優(yōu)于0.25%

        • 重復(fù)性誤差*:小于1 Ǻ

        產(chǎn)品可選項:

        • 用于反射的光度測量或透射測量

        • 用于測量小區(qū)域的微小光斑

        • 高分辨率數(shù)字?jǐn)z像頭

        • 用于MSP的超長物鏡

        • X-Y成像平臺(X-Y模式,取代ρ-θ模式)

        • 加熱/致冷平臺

        • 樣品垂直安裝角度計

        • 波長可擴展到遠(yuǎn)DUV或IR范圍

        • 掃描單色儀的配置

        應(yīng)用領(lǐng)域:

        • 玻璃鍍膜領(lǐng)域(LowE、太陽能…)

        • 半導(dǎo)體制造(PR,Oxide, Nitride..)

        • 液晶顯示(ITO,PR,Cell gap... ..)

        • 醫(yī)學(xué),生物薄膜及材料領(lǐng)域等

        • 油墨,礦物學(xué),顏料,調(diào)色劑等

        • 醫(yī)藥,中間設(shè)備

        • 光學(xué)涂層,TiO2, SiO2, Ta2O5... ..

        • 半導(dǎo)體化合物

        • 在MEMS/MOEMS系統(tǒng)上的功能性薄膜

        • 非晶體,納米材料和結(jié)晶硅

        詳情關(guān)注:北京燕京電子有限公司

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        10分

        售后服務(wù)

        10分

        易用性

        10分

        性價比

        10分
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